机译:通过原子层沉积的聚碳酸酯蚀刻的离子轨道通道的低于100nm直径通道的共形siO 2 sub>涂层
机译:通过原子层沉积对聚碳酸酯蚀刻离子通道的直径小于100 nm的通道进行共形SiO2涂层
机译:通过原子层沉积的微细通道中的光学涂层
机译:基于饱和曲线的原子层沉积的共形状分析:横向高纵横比通道中的氧化铝
机译:HF刻蚀热和RTP SiO_2作为界面层沉积HfO_2的原子层
机译:通过原子层沉积的三维纳米结构的共形涂层,用于开发先进的能量存储装置和等离子体透明导体
机译:通过原子层沉积对聚碳酸酯蚀刻离子通道的直径小于100 nm的通道进行共形SiO2涂层
机译:通过原子层沉积对聚碳酸酯蚀刻直径小于100 nm的离子通道通道进行共形SiO2涂层
机译:LDRD项目52523最终报告:高度保形摩擦涂层的原子层沉积